集成電路作為電子產(chǎn)品中的核心部件，其質(zhì)量的好壞直接決定了到電子整機產(chǎn)品的性能和可靠性的高低。在集成電路的制備過程中，其表面粘附的顆粒、有機物、金屬等污染物嚴重影響器件的性能。隨著集成電路板中單元圖案的日益微型化以及集成度的日益提高，對器件的性能、可靠性、良品率、使用壽命等的要求越來越高。因此，在集成電路制造過程中的硅氧化、光刻、外延、擴散和引線蒸發(fā)等諸多工序前，均會采用物理或化學的方法去除硅片表面的污染物和自身氧化物，以得到符合清潔度要求的硅片，但由此也產(chǎn)生了大量的廢水。

如果集成電路廢水處理不得當或者不處理直接排放，將會對環(huán)境以及水生物造成不可估量的危害，大量的水直接排放也降低了水資源利用率。對集成電路廢水進行廢水回用從經(jīng)濟效益、環(huán)保效益和社會效益上來講都是可行的。

萊特萊德的集成電路清洗廢水回用系統(tǒng)工藝合理，運行持久穩(wěn)定，經(jīng)濟效益明顯，環(huán)境風險性能可控，整體布局高度集成，美觀大方。Neterfo極限分離系統(tǒng)是萊特萊德為“三高廢水”研發(fā)的一套膜法深度處理回用系統(tǒng)。系統(tǒng)搭載了錯流PON耐污染技術(shù)、POM寬流道高架橋旁路技術(shù)等多項技術(shù)，實現(xiàn)了高回收率的處理效果，突破傳統(tǒng)回用水系統(tǒng)50%回收率瓶頸，綜合回收率可達90%以上，以處理量100m3/h系統(tǒng)為例，Neterfo極限分離系統(tǒng)每年可節(jié)約近32萬噸水。

隨著集成電路清洗廢水回用技術(shù)的不斷進步，以及我國對集成電路的需求不斷增加，集成電路廢水的有效回用符合我國目前的節(jié)水環(huán)保理念。Neterfo極限分離系統(tǒng)簡單的模塊化設(shè)計使其運行更加靈活，能夠?qū)崿F(xiàn)集成電路廢水的回用。